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物理真空鍍
物理真空鍍技術

V?系列采用最新的金屬表面真空鍍膜技術。材料由鋁基層、親和層、99.99%超純鍍鋁層、保護及増強反射層(TiO2+MgF2*)構成。不同于常見的SiO2組合保護及增強反射層,V?系列采用了TiO2+MgF2組合,這種新組合通過測試,結果顯示比SiO2+TiO2組合的材料提高了1.5%的總反射率,最高甚至可達到鍍99.99%的超純銀才可達到的98%的反射率。該產品將在大幅度提高反射性能的同時降低客戶的用料成本。

V?系列產品卓越的光反射性能能夠大幅度地提高照明、光學及太陽能設備的光效利用率,提高產品品質、延長產品壽命,有效達到節約能源、降低能耗等作用,滿足客戶對鋁材高反射率的需求。

*MgF2簡介 

氟化鎂(MgF2)被應用在環境要求很苛刻的光學系統中,在真空紫外到紅外(110nm~6000nm)波段有著極高的透過率。輻射不會導致色心的產生,它有良好的機械性能,可以承受熱和機械震動,很大的外力才能使氟化鎂解理。


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